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イベント・セミナー
SPIE Photomask Technology + EUV Lithography 2026
2026/
09.08 [火] -09.11 [金]
-
イベント
Monterey Conference Center, California, USA Booth# 309
開催概要
NTTアドバンステクノロジ株式会社（以下、NTT-AT）は、2026年9月8日（火）から9月11日（金）まで米国カリフォルニア州モントレーで開催される「SPIE Photomask Technology + EUV Lithography 2026」に出展いたします。
NTT-ATブース（Booth #309）では、「EUVミラー／軟X線ミラー」および「EUVダイクロイックミラー」をご紹介いたします。
皆さまのご来場を心よりお待ちしております。
- 開催期間
2026年9月8日(火)～11日(金)
- 開催地
- Monterey Conference Center, California, USA
- 主催
SPIE (The International Society for Optics and Photonics)
- 公式サイト
- 入場料
無料
※参加登録方法・参加費の詳細は主催者サイトをご確認ください。
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Monterey Conference Center, California, USA Booth# 309