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nano tech 2017

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来る2017年2月15日(水)~17日(金)、東京ビッグサイトにて開催される「nano tech 2017」に出展いたします。
弊社では、下記の商品をご紹介いたします。是非、NTT-ATのブースにお越しください。

開催概要

開催期間 2017年2月15日(水)~17日(金)
開催地 東京ビッグサイト 東4・5・6ホール&会議棟
主催 nano tech実行委員会
公式サイト http://www.nanotechexpo.jp/main/index.html
入場料 3,000円(但し、事前登録者は無料)

出展概要

出展品目
  • ナノインプリント用モールド
    ナノテク、光学、バイオ等の研究開発分野で活用されているナノメートルオーダーの微細パターンをご提供します。
  • SiC,SiNメンブレン
    NTT-ATのメンブレンは精緻な応力制御により、機械的強度が強く、非常に平滑な自立膜を実現しております。お客様のニーズにより、材質はSiC/SiNから選択でき、且つ幅広い膜厚/サイズにも対応が可能です。
  • 小型超臨界乾燥装置
    超臨界を応用したプロセス装置です。不燃性・低毒性のフッ素系用材(HFE)を使った、新しい超臨界洗浄・乾燥処理を実現します。
  • 半導体プロセスサービス
    半導体プロセス開発のアウトソーシング・パートナーとして、半導体デバイスの研究開発を総合的に支援しています。

このイベントへのお問い合わせ先

 


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