2012年02月15日（水）～　17日（金）「nano tech 2012 第11回国際ナノテクノロジー総合展・技術会議」出展のお知らせ

ホーム＞イベント・セミナー最新情報＞ 2011年度（イベント）＞nano tech 2012 第11回国際ナノテクノロジー総合展・技術会議

nano tech 2012 第11回国際ナノテクノロジー総合展・技術会議

来る2012年2月15日（水）～17日（金）に東京ビッグサイトにて開催される「nano tech 2012 第11回国際ナノテクノロジー総合展・技術会議」に出展いたします。

当社では、半導体プロセスサービス、ナノインプリント用モールド、小型超臨界洗浄・乾燥装置、SPR測定装置、シリコンフォトニクス素子などを展示いたしますので、是非、NTT-ATのブースに足をお運びいただき、ご覧ください。

開催期間	2012年2月15日（水）～17日（金）
開催地	東京ビッグサイト　東4・5・6ホール＆会議棟
主催	nano tech実行委員会
公式サイト	http://www.nanotechexpo.jp/
入場料	3,000円（但し、上記Webサイトで事前登録された方は入場無料）

出展品目	半導体プロセスサービス GaAsプロセス、InPプロセス、Si、LiNbO3プロセスまで、半導体プロセスの研究開発を総合的に支援します。ナノインプリント用モールド多様なタイプ、形状のモールドに対応。8インチSiモールド、石英モスアイモールドを展示します。小型超臨界洗浄・乾燥装置超臨界を応用したプロセス装置です。極微細パターン形成に有効となる超臨界乾燥を従来の二酸化炭素ガスではなく、不燃性・低毒性のフッ素系液体を用いて実現しました。フッ素系液体の洗浄性を利用した超臨界洗浄も可能です。液体を用いるため、手軽に扱うことができる新しい超臨界洗浄・乾燥装置です。 SPR測定装置 Smart SPR 最大40chのマルチチャネル計測可能な、高感度表面プラズモン共鳴測定装置です。シリコンフォトニクス素子医療・環境センサや低エネルギー光インターコネクションへの展開が期待されるシリコンフォトニクス素子です。

出展品目

半導体プロセスサービス
GaAsプロセス、InPプロセス、Si、LiNbO3プロセスまで、半導体プロセスの研究開発を総合的に支援します。
ナノインプリント用モールド
多様なタイプ、形状のモールドに対応。8インチSiモールド、石英モスアイモールドを展示します。
小型超臨界洗浄・乾燥装置
超臨界を応用したプロセス装置です。極微細パターン形成に有効となる超臨界乾燥を従来の二酸化炭素ガスではなく、不燃性・低毒性のフッ素系液体を用いて実現しました。フッ素系液体の洗浄性を利用した超臨界洗浄も可能です。液体を用いるため、手軽に扱うことができる新しい超臨界洗浄・乾燥装置です。
SPR測定装置 Smart SPR
最大40chのマルチチャネル計測可能な、高感度表面プラズモン共鳴測定装置です。
シリコンフォトニクス素子
医療・環境センサや低エネルギー光インターコネクションへの展開が期待されるシリコンフォトニクス素子です。

※ 本ページに記載されております製品、サービス名または固有名詞は、各社の商標または登録商標です。

TEL : 03-5325-0707