ナノ・マイクロ ビジネス展
国内

ナノ・マイクロ ビジネス展

来る2014年4月23日(水)~4月25日(金)、パシフィコ横浜にて開催される「ナノ・マイクロ ビジネス展」に出展いたします。
弊社では、下記の商品を出展いたしますので、是非、NTT-ATのブースに足をお運びいただき、商品をご覧ください。

開催概要

開催期間 2014年4月23日(水)~4月25日(金)
開催地 パシフィコ横浜 展示ホール
主催 財団法人マイクロマシンセンター
公式サイト http://www.micromachine.jp/
入場料 無料(事前登録が必要)

出展概要

出展品目
  • 『ナノインプリント用モールド』
    多様なタイプ、形状のモールドに対応。8インチSiモールド、石英モスアイモールドを展示します。
  • 『マイクロレンズアレイ』
    弊社標準仕様のカタログ品から特注品までマイクロレンズアレイの金型原版を作製します。
  • X線関連部品
    『X線/極端紫外線(EUV)光学部品』
    放射光・レ-ザ-プラズマX線・高次高調波等に適用するX線/極端紫外線(EUV)フィルタ
    『X線/EUVフィルタ』
    特定波長のEUV光(極端紫外線,Extreme Ultra-violet)を可視光や不要なEUV光から分離
    『軟X線ビームスプリッタ』
    『センタービームストップ素子』
  • 『MEMSファウンドリーサービス』
    最先端の微細加工技術を基に、ナノテク・光学・X線・半導体分野の各種微細加工部品の開発・製造・販売、特注品まで幅広くお客様のニーズに応じます。
  • 『超臨界・加圧オーブン』
    半導体やLED製造プロセスでの封止工程で発生する気泡の除去に効果的です。熱風方式の採用により、昇温、降温を高速に行い、温度プロファイルの制御が容易に行えます。押圧成型と異なり、加圧は高圧窒素や空気を用いて行うため、均一な押圧が試料へのダメージを軽減します。オプションとして窒素循環タイプもラインナップしています。
  • 『STP用転写成膜装置』
    STP用転写成膜装置は、MEMS、マイクロ流路における封止や、LSIの層間絶縁膜の埋め込み平坦化等を実現する装置です。

このイベントへのお問い合わせ先

 


Twitterでシェア Facebookでシェア