海外

2009 Taiwan Nano Exhibition

来る2009年10月7日(水)~ 10月9日(金)に、台湾・World Trade Centerにて開催される、「2009 Taiwan Nano Exhibition」に出展いたします。

当社では、下記の『半導体プロセスサービス』や『窒化物エピタキシャル基板』などを出展いたします。

是非、当社ブースに足をお運びください。

開催概要

開催期間 2009年10月7日(水)~ 10月9日(金)
開催地 台湾・World Trade Center / Hall 1 / Zone B (No. 5, sec.5, Xinyi Rd., Taipei City)
主催 Office of National Nanoscience and Nanotechnology Program
公式サイト http://nano.tca.org.tw/index_e.htm
入場料
無料

出展概要

出展品目
半導体プロセスサービス
  • NTT-ATは半導体プロセス開発のアウトソーシング・パートナーとして、半導体デバイスの研究開発を総合的に支援いたします。
  • 窒化物半導体エピタキシャルウェハ
  • NTT研究所が開発した高歩留率を有する窒化物半導体製造技術を導入した、HEMT用窒化物半導体エピタキシャル基板です。
  • ナノインプリント用モールド(NTT-ATナノファブリケーション株式会社)
    光学部品
  • ナノオーダーの高精度な光学部品を製作
  • X線光学部品

     

    このイベントへのお問い合わせ先

    TEL( フリーダイヤル) : 0120-057-601

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